第697章 直奔浸润式光刻（2 / 2）

“小山，你的意思是林博士他们解决了下一代光源了？”曲慧由于长年累月呆在鸿芯这边，早已经对光刻机技术和发展了如指掌，知道目前国内虽然由赵凯东那边实现了Arf光源的突破，但Arf在国外可是好几年前就已经突破了……而且人家早就意识到了193nm的Arf激光将会是光刻机发展的一个重要节点——这也是国产光刻机追上世界的重要机会。

但人家意识得早，就意味着布局得早。尼康早就拉了一帮人在搞157nm的F2准分子光源不说，老美那边更是牛逼，国家能源局亲自下场，组建了一支豪华的阵容直接瞄准了最低可到10nm波长的极紫外光源EUV。

而国内，则压根没有那个精力去搞。

现在苏远山说的不是直接搞光源，而是直接搞光刻机……

好家伙，意思就是那边的团队搞定了光源？

当然，郑振川不向曲慧他们这样一惊一乍的，作为鸿芯的负责人，他自然知道林本坚他们的方案，并且自己这边也给出了合作计划。

但苏远山现在说到直接就进行光刻机的研究……

这……是不是走得太快了一点？

所以，郑振川也疑惑地望向苏远山。

面对众人疑惑的眼神，苏远山轻轻地吸了口气。

之所以让郑振川直接就上马浸润式光刻机，自然还是因为他对林本坚有着绝对的信心。

林本坚是工程师，而且还是那种按部就班的、极为老派和严谨的工程师。他既然能提出浸润式方案，那脑海中就必定有一个大体的解决方案。

而苏远山上次从HK回来时就路过了沪市，专门去看了林本坚罗列出的一个个要解决的技术问题和难点。按照苏远山对机械工程和光学的浅薄认识来看，这些技术，都不是超越现代机械工程的技术。

那么这就意味着，浸润式方案，也会如同前世一样，或许两年就能搞出来——把时间再算浮一点，那也就是三年！

三年！

如果郑振川和林本坚的团队一同协作，一开始就直奔浸润式DUV的研发，那么或许最多三到五年……鸿芯就能推出世界上第一台浸润式DUV光刻机。

想到2003年，自己就能拿到可以卖20年都不会落伍的DUV，苏远山就感觉到有点燥热起来。

那该是多么伟大的一次超越啊……

“不，林，赵团队没有解决光源，但他们有解决波长的方案。可以实现超越193nm的效果。”苏远山看着曲慧和沈浩然，解释道：“如果郑叔这边和那边直接配合启动该方案的光刻机的研发，那么……或许鸿芯就可能是第一家率先打破193nm的光刻机企业。”

“到时候，别说ASML之流，就算尼康佳能，他们也只能跪地求饶。”

“而一旦我们有了话语权，我们再来拉着他们开展对下一代光源、譬如EUV的研究……那么主动权就在我们手里了。”