第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题（1 / 2）

[[第一一一八章 浸没式光刻系统遇到难题

800nm制程工艺的专利技术对于GCA来说如同鸡肋，但对于BSEC如同神助，掌握后就能跨越1um制程工艺，拥有800nm制程工艺技术。

拥有了193nm的ArFi准分子激光器的制造技术和800nm制程工艺的专利技术，但BSEC还不能生产自主知识产权的1um制程工艺的光刻机。

为了将来不被美国政府卡脖子，未雨绸缪，BSEC要掌握生产光刻机的三大核心技术：光源系统、光学系统和工作台系统，不断升级换代。

叮嘱邓国辉，BSEC光刻机光源研究所研究清楚GCA生产的193nmArF准分子激光器的工作原理和制造技术，光刻机光源公司自己生产；叮嘱陈伟长，BSEC光刻机光学研究所自己研制成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光学镜头和反射镜头，光刻机光学公司自己生产。

孙健承诺，BSEC在2年内生产具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机，淘宝控股公司掏钱奖励项目组200万元；在4年内能生产一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线，他从淘宝控股公司持有的BSEC股份中，拿出200万股奖励给做出重大贡献的科技和生产人员，但在规定时间内，完不成任务，就开始裁员！

奖励和裁员双管齐下，管理层、技术人员和普通员工的压力剧增。

邓国辉拿到ArF准分子激光器专利技术，同钱富强仔细研究一番后，如醍醐灌顶，豁然开朗，申请2000万元的研发经费，带领光刻机光源研究所按照GCA提供的技术图纸，消化吸收ArF准分子激光器的专利技术……

1995年2月，经过一年半的攻关，光刻机光源公司生产出一台6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机。

1995年9月，BSEC生产了一条有自主知识产权的6英寸晶圆和1um制程工艺的半导体生产线，填补了国内技术空白，打开了国内市场，终于抛掉三年巨亏的不利局面，1995年度实现净利润11600万元。

1996年4月20日，BSEC拿到公开发行新股的额度，6月11日，在鹏城证券交易所公开发行了15000万股新股（其中1000万股职工股），每股发行价6元，融资8.73亿元（扣除发行费用），其中8亿元用于研发8英寸晶圆和500nm制程工艺光刻机，0.73亿元用于补充公司流动资金。

当时BSEC研制的6英寸晶圆和800nm制程工艺的光刻机已经临近尾声。

“邓院长，研究院继续研发8英寸晶圆和500nm工艺的光刻机。”

“好的，董事长！”

“魏总，公司争取早日生产出一条具有自主知识产权的6英寸晶圆和800nm制程工艺的半导体生产线，到时，PGCA率先订购一条。”

“好的，董事长！”

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